Китай розробив прототип машини для створення ШІ-чипів, щоб конкурувати із Заходом – Reuters

18 грудня 2025 р. 13:06

18 грудня 2025 р. 13:06


Купуйте річну передплату на шість журналів Forbes Ukraine за 1259 грн замість 1799 грн . Якщо ви цінуєте якість, глибину та силу реального досвіду, ця передплата саме для вас. В період акції Christmas sale діє знижка 30% 🎁

Деталі

  • Роботу над прототипом завершили на початку 2025 року, нині установка проходить випробування. Вона займає майже весь виробничий цех. За словами двох джерел, знайомих із проєктом, машину створила команда колишніх інженерів нідерландської ASML, відтворивши її технології шляхом зворотного інжинірингу систем екстремальної ультрафіолетової літографії (EUV).
  • Саме EUV-машини є ядром «технологічної холодної війни». Вони використовують екстремальне ультрафіолетове випромінювання для формування на кремнієвих пластинах схем, у тисячі разів тонших за людську волосину. Чим менші ці елементи, тим потужнішими стають чипи.
  • За даними джерел, китайська установка вже стабільно генерує EUV-випромінювання, однак поки не здатна випускати чипи, придатні для практичного використання.
  • Використання компонентів зі старіших машин ASML, доступних на вторинних ринках, дозволило створити перший вітчизняний прототип. За словами джерел, офіційна мета уряду – налагодити виробництво працездатних чипів на цій установці до 2028 року, хоча учасники проєкту називають реалістичнішим термін 2030-й. Навіть це на кілька років швидше, ніж оцінки аналітиків, які говорили про десятиліття відставання від Заходу.
  • Проєкт став кульмінацією шестирічної державної програми з досягнення самодостатності в напівпровідниковій галузі – одного з ключових пріоритетів голови КНР Сі Цзіньпіна. Хоча стратегічні цілі Пекіна були публічними, розробку EUV-системи в Шеньчжені, за словами джерел, вели в умовах суворої секретності.
  • Ініціатива є частиною національної напівпровідникової стратегії, яку, за даними державних медіа, координує довірена особа Сі Цзіньпіна — Дін Сюесян, очільник Центральної комісії КПК з науки і технологій. Співрозмовники Reuters порівнюють цей проєкт із китайським аналогом «Мангеттенського проєкту».
  • «Мета – щоб Китай у підсумку виробляв передові чипи на машинах, повністю створених усередині країни, – зазначив один із джерел. – Пекін прагне повністю усунути США зі своїх ланцюгів постачання».

Контекст

У квітні генеральний директор ASML Крістоф Фуке заявляв, що Китаю знадобиться «дуже, дуже багато років», аби самостійно створити таку технологію. Водночас поява прототипу свідчить, що Пекін може бути значно ближчим до напівпровідникової автономії, ніж прогнозували аналітики.

Попри прогрес, Китай усе ще стикається з серйозними технічними бар’єрами – передусім у сфері надточної оптики, яку нині здатні виготовляти лише західні компанії.

Наразі лише одна компанія у світі володіє технологією EUV – ASML із штаб-квартирою у нідерландському Вельдховені. Її установки вартістю близько $250 млн є критично важливими для випуску найсучасніших чипів, які розробляють Nvidia та AMD і виробляють TSMC, Intel і Samsung. Такі системи доступні лише союзникам США – зокрема Тайваню, Південній Кореї та Японії.

З 2018 року Вашингтон тисне на Нідерланди, домагаючись блокування постачань EUV-обладнання до Китаю. У 2022-му обмеження посилили в межах масштабного експортного контролю, запровадженого адміністрацією Джо Байдена. За даними ASML, жодну систему EUV компанія ніколи не продавала китайським клієнтам.

Китай розробив прототип машини для створення ШІ-чипів, щоб конкурувати із Заходом – Reuters

Джерело: forbes.ua (Новини)